阅读此文前，诚邀您点击一下“关注”，方便您随时查阅一系列优质文章，同时便于进行讨论与分享，感谢您的支持~

芯片，是驱动现代人类数字生活的大脑，纳米尺寸上，无数条错综复杂的集成电路就是它的神经元，而这每一个“神经元”，都是由上百亿个晶体管搭建而成，如何在沙子之上雕刻碉楼大厦？

除了上帝之手，人类也发明了一个工具，被命名为了光刻机。

根据路透社近日的新闻报道，荷兰ASML公司将在本月初正式宣布对我国的光刻机出口制裁，这也亮明了荷兰将正式加入了美国对华的芯片制裁大军。

而荷兰的这一项决定，对于我国的电子芯片领域来说，无疑是一次沉重的打击。

那么ASML公司到底有什么能力，能让我国如此依赖？而我国当前为何就不能够生产出自己的光刻机？

“从小作坊到成为行业霸主”

在当前的科技体系下，光刻机有DUV和EUV两个版本，DUV光刻机的光源波长是193纳米，这个版本的光刻机系统较为成熟，就连我国也能够系统批量的进行生产，并一度达到了90纳米的精度。

而EUV光刻机则完全不同，可以说是DUV的全面升级版本，不仅在设备工艺上和技术要求上有了更大的提升，而且在光源波长上，更是精进到了13.5纳米。

而有了如此小的光源波长，就能够让光刻机做到小于5纳米的精度，来进行芯片生产。

精度越高的光刻机，它就能够生产出纳米尺寸更小，功能更强大的芯片，这样的EUV光刻机，只有荷兰的ASML公司所拥有。

而这样的一台EUV光刻机的售价，就达到了10亿美元，尽管如此的高昂价格，仍是供不应求。

那么ASML公司是如何能够做到掌握如此尖端科技的？

冷战时期，在那样一个特殊的时代背景下，美苏展开了疯狂的军备竞赛，而在军事力量的背后，自然是科技的支撑，为此，美国不计成本的投入大量的资金，来对各种新技术进行研发。

在这其中，电子技术的微型化，就是一个重要的研发方向，国家的政策影响着企业的方向，有了政府的预算支持，不少科技企业纷纷投身于电子技术微型化的研究。

很快，美国就研发出了世界上的第一块集成电路，这让欧洲国家对此十分眼热，各个国家都纷纷派出代表，前往美国对新技术进行学习。

其中就包括荷兰的飞利浦公司，这家公司所生产的产品，至今被全球各个国家的人们所使用，就不多介绍了。

当时飞利浦公司的工程师在美国了解完集成电路后，在返回荷兰后表示自己也可以制造，于是飞利浦公司决定自己也要制造芯片。

而制造芯片自然需要光刻机，于是飞利浦公司便投入到了光刻机的自行研发中，然而在真正的研发之后，飞利浦公司才发现自己低估了光刻机的难度。

首先就是光刻机是一个超高技术含量的工程，需要大量的工程师投入其中，而这所需要的资金自然也是一笔天文数字，而在当时，即使研发出了光刻机，也抢不过已经早就占据好市场的美国。

面对这样的情况，飞利浦公司打算砍掉光刻机研发项目，正在这时，荷兰的ASM公司找到了飞利浦，表示希望能够与飞利浦公司合作光刻机项目，而这个ASM公司，是一个十足的小作坊式公司，甚至老板也兼任工程师。

这在飞利浦看来，这是一个不错的“接盘侠”，如果成了都有好处，如果失败了，飞利浦公司也不亏。

于是飞利浦公司出资210万，与ASM联合成立了日后鼎鼎大名的ASML公司。

而此时，市场已经被美国占据，ASML即使研发出了光刻机，也没法和美国进行争抢，特别是光刻机这样的尖端科技，向来是只有第一名，没有第二名的。

于是ASML公司决定直接放弃当时的光刻机研发，跳过当下市场上的光刻机版本，反正都要从零起步，不如直接从第二代光刻机开始。

这样的跳跃思维虽然很值得称赞，但离开了第一代光刻机的参照，起步是非常困难的，于是ASML公司决定要吸纳更多的工程师人才。

很快，ASML公司因为是和飞利浦公司合资的原因，于是他们打着飞利浦公司的旗号，来去各个大学内进行招聘，不少的优秀学生一听是飞利浦公司，便纷纷投去了简历，而ASML公司也因此迅速的获得了一大批人才。

1984年，ASML公司就研发出了名为PAS2500的光刻机，它无论是精度上还是技术含量上，都远超当时市面上的光刻机，很快就抢占了美国所拥有的市场，而这也为ASML公司，打开了局面。

而在这之后，ASML公司就凭借着领先一步的光刻机技术，占据着光刻机市场的主要份额。

然而，光刻机的技术难度是精度越大，就越难精进，即使是ASML公司，在后来也只能将光刻机的光源波长134纳米，再难进步。

而随后其它的公司也很快追了上来，虽然没有到ASML公司134纳米的程度，但也在很大程度上有所接近。

面对这样的情况，1997年，美国国家牵头，成立了一个EUV联盟，联盟成员包括美国的三大国家实验室，还有英特尔、AMD等半导体巨头。

而对于光刻机来说，它的每一次迭代，就意味着逼近物理学的极限，因此如果没有行业尖端企业的加入，是很难取得进步的。

而此时ASML公司在得知了美国成立联盟之后，也表明自己很想加入进去，来进行EUV光刻机的研发，但ASML毕竟是外国企业，这让美国政府很难放心。

于是ASML保证自己一半的产品零部件都从美国进购，并且定期接受美国的检查，防止技术外泄。

但即使有这么多科技巨头的尖端科学家们参与研发，但也只是在理论上验证了EUV光刻机的可行性，但别小看这理论上的验证，这就花了整整六年。

这其中所投入的资金更是不计其数，为此ASML采用了联合投资，共担风险的方式，如果制造成功，便会将EUV光刻机优先提供给投资企业，于是台积电、三星和英特尔，纷纷进行投资。

2015年，EUV的量产样机正式发布，先前投资的三家企业，也因此一跃成了芯片大厂，而ASML公司，也凭借着超越时代的EUV光刻机，稳坐王座。

“道阻且长的中国光刻机研发”

2020年，美国正式宣布了对我国企业华为，实施技术封锁，导致华为的麒麟芯片的生产一度陷入到了停摆的局面，有能力研发芯片，却无能力生产芯片，成为了中国在芯片领域上的痛。

这个时候就会出现一些声音说道：“原子弹那么难，我们都自己搞出来了，一台机器能有什么难？”

实际上，早在1977年，我国就自主研发出了一台光刻机，并在三年后，由清华大学将该台光刻机的精度提升到了三微米，而在当时，ASML公司甚至都还没有成立。

然而为何我国起步这么早，光刻机的技术水平还远不如它国？

其中最主要的原因就在于光刻机本身，它的难度并不在于生产制造，我国完全有自主生产光刻机的能力，但是却无法做到能够跟上时代的迭代进步。

比如当前我国能够量产的光刻机有90纳米，已经研发的就已经可以达到22纳米的精度，但比起ASML公司恐怖的5纳米级别，自然是差得远。

而另一个原因就是在于其它国家对于中国的制裁。

在美国的EUV联盟成立的前一年，也就是1996年，在美国的牵头下，三十三个西方国家在奥地利签署了《瓦森纳协定》

在这个协定中，规定了军事武器和先进材料、电子器件等领域，实施限制出口的方式，而当初这个协定中却没有明确规定限制对哪个国家的出口。

这就导致了这个协定具有很大的松散性和可操控性，而作为牵头人的美国，就可以在此次协定上大做文章。

就比如当年捷克曾经想向我国出口军事设备，但捷克同样也是《瓦森纳协定》的签署国之一，于是在美国的施压下，迫使了捷克停止向我国的军事设备出口。

而讲完了外部因素，再来说一说光刻机之所以难以研发的内部因素。

光刻机通俗来讲就是采用投影的方式，它的核心就在于制造一个放大的透光的模子，把想要的集成电路给印在模子上，再让光通过这个模子照射在硅片之上，这样就能够在硅片上得到自己想要的集成电路。

但不同的光，进行照射后，所得到的纳米精度也不一样，于是紫外光就进入了工程师的视野，紫外光的波长可以达到193纳米，这对于当时来说，无疑是最好的光刻机用光，这也就是后来的DUV光刻机用的光。

但人类对极限的追求从来没有停止，科学家们发现通过将紫外线来击打液态金属锡，就可以得到13.5纳米的紫外光，这就是现如今EUV光刻机所用到的光。

但这样听着容易，做起来就难的多，首先就是这个金属锡仅有二十微米大，并且运动轨迹是滴落状态，最重要的是要对这金属锡在一秒内，实现不低于五万次的击打，才能够得到EUV所需要的光。

仅获取光源这一项，就对我国的科学技术提出了不小的要求，但光解决了光还不行，光是沿直线传播，这就需要做出一面足够“光滑”的镜子，来折射紫外线，保障光能够精准的打在芯片上。

然而在实际情况下，每一次的反射光源，都会损失一定量的光强，那么就需要极其“光滑”的镜子来确保光强。

而生产EUV镜子的公司是来自德国的蔡司公司，它所生产的这扇镜子，被称之为“宇宙中最为光滑的结构”。

到此为止，我们不难看出，对于生产先进的光刻机来说，所需要的材料和学技术，对于我国来讲都是不小的挑战。

而另一方面，ASML公司虽然能够生产EUV光刻机，但实际上，ASML公司也是依靠着全球数家顶尖企业，来负责为它生产相应的尖端配件，才能保证EUV光刻机的正常运行。

可以说ASML公司能够拥有EUV光刻机，其实是全球顶尖企业共同努力才得到的结果。

然而我国却遭到了这些企业的抵制，当下，我国并没有能力在各个行业都做到行业顶尖，因此在某些方面就必须要依赖于国外的进口，这对于我国自主研发光刻机来说，无疑是非常致命的。

事实上，在美国刚开始对我国实施芯片制裁的时候，我国还可以依赖台积电和荷兰ASML公司，来保证我国的芯片供给，然而靠他国的援助自然无法获得长久的安稳。

特别是近日荷兰的ASML公司也要宣布对我国采取制裁，这也让我国认清了现状，只靠别人是根本靠不住的，关键时刻还是只能靠自己。

因为这就对我国提出了更大的机遇，但也是挑战。

因为芯片发展的受限，我国就需要加大光刻机的投入，来摆脱这样的局面，如果能够成功，我国就可以在很大程度上获得芯片的自主权，彻底摆脱掉西方国家在光刻机领域卡脖子的现状。