光刻机闹剧结束!美、荷亮明态度,外媒:中国芯片或倒退10年

半导体技术诞生于美国,并在老美的推动下发扬光大。凭借着芯片领域的先发优势,许多美企在半导体细分领域占领了高地,并且依靠背后持股、技术授权等方式在全球赚得盆满钵满。分土必争的老美自然不允许他人闯进自己的舒适区。所以当华为在半导体领域打破西方垄断之后,老美的芯片禁令犹如一颗子弹一般,射向了华为,也射向了中国芯片行业。

过去两年的时间,老美似乎低估了中国的研发实力,虽然没有EUV光刻机,但仅凭没有限制的设备我国就实现了14nm工艺芯片的量产,掌握住了芯片行业的基本盘。所以从去年10月开始,老美联合日本、荷兰这两个拥有中高端光刻机制造技术的国家达成了三方协议,目的就是限制14nm芯片相关设备,保证美芯片技术的“绝对领先”!

不像迫于压力,更像正中下怀,日本祭出“最严禁令”,对23种相关芯片制造设备实施出口管制,这些设备几乎涵盖了整个芯片制造产业链,还追加了多种关键半导体材料。

相对而言,光刻机领头羊荷兰ASML对中国市场还依依不舍,比如ASML总裁访华并表达了肯定的态度,当老美升级禁令时不忘警告中国市场的重要性。毕竟我国不仅拥有全球最大的芯片市场,同时还在成为全球最大的芯片制造国家之一,ASML的高端EUV光刻机无法进入大陆市场,DUV再被断供,必然会影响其后续的投资与创新力度。

就当不少人对ASML中高端DUV光刻机抱以美好幻想时,光刻机闹剧结束了!美国、荷兰接连亮明了态度!

据央媒发文表示,6月30日荷兰ASML发布了最新公告,最先进的浸没式DUV光刻机出口需要得到荷兰政府的许可。并且报道称,老美预计将更进一步,利用其广泛影响力阻止“特定中国厂商”获得更多的荷兰设备。而ASML也随即发布公告称,由于法律规定,ASML出口浸润式DUV光刻机系统TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统,需要得到荷兰的申请许可。

不仅如此,除了DUV光刻机之外,此前英伟达为规避美制裁推出了中国定制版的A800 GPU芯片,针对这种定制版芯片也被列入了管控清单中,目的也是进一步遏制我国人工智能、超算等方面的发展,这对于我国网信产业来说,同样不是一件好事。

对此,不少外媒嘲讽道:没有ASML的DUV光刻机,没有全球化的支持,中国芯片或倒退10年!其实老美对我国半导体产业发动的战,不仅包含禁售,技术压制,同时还包括舆论压制。中国集成电路行业确实会受到一些影响,但倒退10年却略显夸张!

从北斗、空间站、万吨大驱,到大飞机,历史再三证明,和自由竞争市场经济规律对着干,一定会迎来创新者的反抗,最终会反噬自身。技术需要市场,否则一文不值,而中国有全球最大的芯片消费市场,一味地与中国市场脱钩断链,必然会影响企业后续的投入与持续创新,最终把自己推向深渊。

况且国产90nm光刻机已经实现量产,28nm精度光刻机取得技术验证,而中科院、国内科技企业也在有条不紊地解决光刻“套娃式”的难题,比如目前哈工大已经突破了EUV光刻机所需要的DPP-EUV光源,中科院EUV光源工程样机也能达到每小时60-70片12英寸晶圆。虽然有些技术还没走出实验室,产能与ASML相比略显不足,架不住我国迭代更新速度快。

对于国人而言,面对老美的步步紧逼,我们不必过于悲观,任何事情都有两面性,金一南说过这样一句话“小成功需要朋友,大成功需要敌人”。老美天天来找茬,反而能倒逼中企快速进步,我国有充足的研发经费,有浴血奋战的科研人员,更有足够大的市场,国产芯片必然能打破技术封锁,相信时间不会太远!

展开阅读全文

页面更新:2024-05-07

标签:光刻   中国   芯片   华为   目的   荷兰   量产   日本   中国市场   闹剧   半导体   态度   领域   结束   我国   设备   市场   技术

1 2 3 4 5

上滑加载更多 ↓
推荐阅读:
友情链接:
更多:

本站资料均由网友自行发布提供,仅用于学习交流。如有版权问题,请与我联系,QQ:4156828  

© CopyRight 2020-2024 All Rights Reserved. Powered By 71396.com 闽ICP备11008920号-4
闽公网安备35020302034903号

Top