中方刚禁用美光，日本出台对华半导体出口禁令，14nm能够保住吗？

随着美国、日本、荷兰达成三方协议，日本、荷兰两国也在最近宣布关于半导体设备的出口管制。其中荷兰方面将在6月之后无法出货2000i等型号的DUV光刻机，之后能够向中国出货的仅有1980Di光刻机，可以说是进一步限制了DUV光刻机的出货。日本方面则是在5月23号正式出台了出口管制措施，宣布了6类23种设备的出口。

这一消息公布之后，许多人都在关注荷兰以及ASML方面的消息，对日本方面的出口限制则关注较少，但实际上日本本次半导体设备的限制一点也不比荷兰少，对中国半导体造成的影响也同样巨大。

对此了解比较多的一些网友甚至持有悲观的态度，认为国产芯片突围失败，美国不仅将中国芯片封锁在14nm，甚至有可能让中国芯片倒退回65nm。那么，如果日本、荷兰、美国方面真的严格执行了这份出口管制，那么中国芯片到底会受到怎样的影响，是否有国产设备可以进行替代，能够保住目前的14nm吗？

日本不惜牺牲利益，也要实施出口管制

从企业的利益来看，日本签署三方协议，将6类23种半导体设备列入出口管制的名单当中，涉及到了尼康、东京电子等十几家日本半导体公司。无疑会极大的损害到这些日本半导体公司的利益，但是日本却宁可要牺牲这些企业的利益，也要实行出口管制，就是为了彻底限制住中国半导体行业的发展。

从类目上来看，本次日本限制的设备涉及到了光刻、蚀刻、清洁、沉淀等多个环节，几乎囊括了目前芯片生产所涉及到的绝大多数环节，不可谓不全面了。

从目前半导体设备的市场份额上来看，日本占据了31.1%的市场份额，仅次于美国所占据的41.7%的市场份额，略高于荷兰所占据的18.8%的市场份额。因此日本如果一心和美国联合起来实行出口管制，对中国芯片造成的影响十分巨大。

国产替代到了何种程度？14nm能够保住吗？

先说结论，在很大程度上，14nm还是能够保得住的，毕竟在半导体设备当中，中国最无法替代的还是光刻机，而荷兰ASML方面却依然能够出货一定的光刻机，其中1980Di型号的DUV光刻机在多次曝光之下还能够生产7nm芯片。

从ASML的态度上来看，也有想要在出口管制范围之外加大光刻机出口到中国，甚至想要扩大在中国团队的规模，还涉及到了一些技术方面的岗位，并且已经表态中国自研光刻机完全是合理的。

不过中国想要实现28nm、14nm乃至是7nm的完全国内供应链还需要三年左右的时间，并且还要在一定程度上加大资金的投入。除了在光刻机方面加强研发之外，也需要在其他半导体设备方面加强研发。

目前全球前20半导体设备厂商当中，有两名是来自中国的企业，分别是排在15位的ASMPT以及排在18位的北方华创。除此之外还有上海微电子等企业在半导体设备方面的技术和体量还算出色。

目前几个比较重要的半导体设备领域中国实现了一定的国产替代。其中蚀刻设备方面的替代率达到了30%，CVD方面的国产替代率达到了13%与PVD方面持平，清洗设备则能够达到50%的替代，热处理设备也能够达到50%的国产替代。其他一些环节国产替代率则比较低，但是影响并不算很大。

说白了最重要的环节还是在于光刻机，目前中国能够自主制造的最顶尖的光刻机还在90nm左右，多重曝光之下可以实现65nm芯片的生产，这也是为什么一些网友认为中国芯片将到退回65nm的主要原因。

不过根据上海微电子方面传出的消息来看，28nm光刻机已经攻克了关键技术，预计将会在今年下半年或是在明年上半年与大家见面。根据光刻机的一贯情况来看，28nm的光刻机如果在多重曝光之下可以生产出来更先进一些的芯片，就是不知道上海微电子的设备能够达到什么样的程度了。

从目前在半导体设备方面国内替代率来看，如果28nm光刻机真的研发成功，那么中国半导体可以在未来两年之内28nm芯片的国内全产业链，可以做到完全不依靠国外设备和技术实现28nm芯片的生产。如果能够增加投入，实现14nm和7nm芯片的生产也并非不可能的事情。

写在最后：目前国际半导体领域在互相合作方面还是比较深的，就像ASML仅仅只掌握了10%左右的EUV光刻机生产技术，很大一部分技术还是要依赖于美国，并且在一些零部件方面还要依赖于国际供应链，如果中国真的被排除在国际供应链之外，对目前的芯片产业造成的影响还是很大的，不过中国正在实现全产业链的国产替代，还是很有可能在未来两三年的时间之内实现28nm到14nm芯片完全自主。对此你们是怎么看的呢？