绕过ASML？中芯国际没有原地踏步，“先进工艺”在路上

自美国对中国实施芯片战略封锁之后，国内的科技产业仿佛一直在原地踏步，芯片作为高端科技产品的“大脑”，一直被少部分国家捏在手里，尤其是7nm、5nm这类性能强、能耗低，且小巧的尖端芯片。

我们都知道，华为崛起之后，芯片封锁禁令就一直没有停过。而恰恰华为这类手机、智能设备的厂商最为需要7nm芯片。目前的大火的ai人工智能、新能源汽车、无人驾驶也是都离不开7nm、5nm的芯片。

在美国禁止了ASML的EUV光刻机出口到中国后，我国的芯片制造工艺也一直停步不前7nm芯片，四五年都还没有突破。虽然中芯国际已经可以制造7nm芯片，并且掌握了量产7nm芯片的技术，但是成本高，缺少EUV光刻机，使得7nm芯片始终无法走入市场。14nm的芯片如今仍旧是国内芯片制造的天花板。

巧妇难为无米之炊，中芯国际也是的。虽然现在国内的厂商有大量的7nm、5nm芯片需求，但是国内没有一家芯片制造企业能够承接这些订单，像华为、小米这些企业只能够被迫去拿三星、拿台积电生产的芯片。

现在中芯国际正在试图绕过ASML研究更先进的工艺，虽然中芯国际已经和ASML达成了光刻机的协议，并且已经交钱了。但是在美国的施压下，这份订单可能最终还是会流产，靠别人始终是靠不住的。何况ASML本就是美国的傀儡。

像台积电这样的企业应该让我们认清了，真正亲美的企业，永远不可能站队到中资企业这边的，我们花钱砸也没有用。

此前就有消息称，华为即将和中芯国际合作，在华为麒麟芯片上使用中芯国际最新的N+1制程工艺的芯片。目前中芯国际已经能够量产此工艺，虽然并非是7nm技术，但是经过多轮测试之后，该N+1的芯片制程性能方面已经远远突破了14nm，甚至接近7nm工艺了，在功耗方面甚至超过7nm芯片。

很多人好奇，中芯国际没有EUV光刻机怎么能够量产这么厉害的“先进工艺”？

中芯国际的N+1制程采用的是DUV光刻，而并非是EUV光刻，这是一种特殊的工艺，有别于台积电的芯片制造工艺。在DUV光刻机的多重曝光下，N+1制程工艺能够提升芯片的功耗和性能。

但是梁孟松也明确了，虽然中芯国际一直在加大投入研发，但是之后的5nm芯片量产仍旧离不开EUV光刻机。

我们的芯片制造落后美国十多年，不可能是一下子就能够赶超的，但是目前中芯国际仍旧在研发的路上，慢慢来，也急不得，技术研发需要脚踏实地，中芯也正在这样做。

台积电走的路子，我们肯定是没有办法走了，因为EUV这条道路已经被堵死了。不过中芯国际现在的N+1和N+2已经在给国内的厂商提供新的研发思路，我们不一定非要委曲求全，等着ASML来帮我们。

认清现实放弃幻想，自己一步步地绕过芯片封锁，而不是等着别人，弱肉强食的社会，没人能帮助我们，我们需要做的就是刻苦奋斗。

你觉得，我们还需要多久才能实现5nm芯片的突破？