芯片和光刻机从65nm到2nm遥遥无期?

目前国内只能生产65nm光刻机,从65nm到2nm,3-5年应该不够吧?

14nm量产还是用的ASML的光刻机,物理极限1nm,ASML和美国不让中国获得7nm光刻技术,目前看来可能永久封禁。(除非手机全用1nm,才解禁中国7nm)

中国无法制造手机和电脑芯片,即失去80-90%的市场份额,只能造汽车、工业、小众电子芯片。中国的差距并不是14-10-7-5-3-2nm,还有一个65-14nm的距离。

华为的14+14nm叠加芯片设计靠谱吗,vivo的方案增强功能芯片靠谱吗?(例如CPU用落后芯片+更高性能摄像头芯片)

是否只要造出2nm光刻机,中国芯片席卷全球?300种材料和工艺都能跟上吗。

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页面更新:2024-04-02

标签:光刻   芯片   华为   小众   遥遥无期   量产   美国   目前国内   中国   摄像头   手机

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