俄罗斯也有自己的光刻机研制计划，2028年生产7nm芯片

现在世界上能够实现7nm芯片生产的半导体企业不多，台积电、三星算是领头的企业，这其中ASML的光刻机居功甚伟，没有了ASML的光刻机，这两家企业不是“巧妇难为无米之炊”，而是巧妇连锅都没有。

看起来ASML很牛，尽管确实很牛，但是ASML的成功是“站在巨人的肩膀之上”的，靠的是”东拼西凑“，采众家之所长，来实现了全球技术领先，这是全人类的智慧技术结晶。

但是遗憾的是，在众所周知的人为因素下，我们享受不到这个全球化的技术成果了，只能走自己的路了。

这几年，大家都在等待国产先进光刻机的消息，希望我们能够早点突破14nm制程工艺，甚至是早点进入7nm工艺。

不过就在大家焦急等待国产光刻机好消息的这个时候，俄罗斯科学院竟然发布了一则让很多人都大感意外的消息称，称俄罗斯科学院要在2028年发布俄罗斯自研的光刻机，而且在制程工艺方面，要达到7nm，即：可以生产7nm工艺的芯片。

在光刻机方面，我们要走自主道路，俄罗斯也因为同样的原因，不得不走自己的自主道路。所以，俄罗斯推出自己的光刻机自研计划，也是早晚的事情。

只是，一次就搞到7nm，这里面能不会有个问号吗？

针对俄罗斯这样的计划，有很多人不看好，毕竟俄罗斯的半导体产业落后世界的可不是一星半点，更何况，在这之前，俄罗斯既没有相关的领先设备，也没有相关的技术成果，现在冷不丁如此计划，不免让人怀疑是在吹嘘。

但是也有人觉得俄罗斯或许还真的有一套自己的可行的方法，因为这次放出此消息的是俄罗斯科学院旗下的应用物理研究所，这是一个拥有非常强大的技术实力的科研单位，虽然困难重重，但是俄罗斯科学院如果集中攻关的话，不排除成功的可能！就像他们自己说的那样“只要根据俄罗斯国内的需求向前推进即可”。

按需推进，这句话很关键，俄罗斯也已经认识到了在光刻机的研制方面，没有必要一味追求高精尖，一味追求先进制程工艺，而是结合自己的实际需求，以满足当下，或者是未来一段时间内的市场需求为主，满足绝大多数的需求为主，这样在市场的推动下，在需求的拉动下，满足了需求，也就解决了问题。

这也不能不说，这是一个切合实际的考虑，当然，这个7nm，还是有些紧迫的。

其实也没有必要笑话，毕竟，六年的时间说长不长，说短不短，尤其是对于光刻机研究制造来说，时间紧任务重，见分晓，大家不会等得太急。