中国的新芯片技术取得重大突破，欧美主导的芯片产业将被瓦解

就在各方还在探讨传统的光刻机制造芯片技术之际，中国芯片行业人士宣布已在光电芯片领域取得了突破，并且还获得了国际顶级学术期刊《自然》的认可并予以发表，这意味着中国在光电芯片商业化方面又前进了一大步。

南京大学官方发表通告指出该校教授张勇、肖敏、祝世宁等人领衔的科研团队发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于“铌酸锂”的晶体内部，可以将铌酸锂三维结构的尺寸从1微米级缩小到30纳米级别，开辟了光电芯片的新赛道。

这无疑是中国光电芯片技术研发的重大突破，代表着光电芯片的商业化又近了一大步，光电芯片将有望用于滤波器、非易失性存储芯片方面，推动中国在5G/6G、人工智能等领域抢占全球科技潮头。

当下中国已推进5G商用并取得全球领先地位，但是由于传统的芯片制造技术未能有效抑制功耗，导致5G芯片（包括5G终端和5G基站等）的功耗过高，阻碍了5G商用的进程，而光电芯片恰恰可以大幅度降低芯片的功耗。

在人工智能方面，大数据运算所需要的巨量电力更是让企业头疼，据分析指出数据中心所消耗的电力大部分都是用于芯片发热以及为数据中心散热的空调系统，随着数据的喷发，数据中心的耗电量更是激增，为此微软、Facebook等不得不在北极圈建设数据中心，或是将服务器沉入大海中减少耗电量，可以大幅降低功耗的光电芯片更可以大展宏图。

目前全球芯片行业主要由欧美主导，欧洲的ASML因为拥有最先进的EUV光刻机，因此全球先进工艺的发展都极度依赖ASML的先进光刻机，中国的先进工艺研发同样受制于ASML一直没有供货的EUV光刻机，以致于当下研发7nm及更先进工艺面临阻碍。

美国则掌握着芯片制造的材料、芯片设计的EDA软件等，ASML也受制于美国供应的核心部件，因此全球芯片行业都受到美国的控制，以致于这几年美国在芯片行业肆意妄为，为了打破这些障碍，中国一直都在积极发展芯片的芯片技术。

如今中国在光电芯片技术方面取得重大突破，并已获得国际知名期刊的认可，代表着中国在光电芯片方面确实很快就能进入商用，如此一来欧美主导的芯片制造体系或将被瓦解，中国芯片行业将开创新篇章。

其实当下中国芯片行业除了在光电芯片方面努力之外，在量子芯片、碳基芯片等方面都在推进，力图通过发展芯片新技术绕过当下以光刻机为核心的芯片制造技术体系，光电芯片率先取得突破将鼓舞中国在其他芯片先进技术方面的探索，全面开花，推动芯片新技术的加速发展。

事实已经证明了中国人在芯片技术研发方面确实有独到的天赋，总是能将不可能迅速变为可能，事实上目前美国就有诸多中国人从事芯片技术研发，证明了中国人在芯片技术研发方面的优势，如今中国在更先进芯片技术方面的突破，意味着中国芯片将很快掌握自己的命运而不再受制于人。