光刻机是芯片制造过程中最重要的设备之一，它的水平基本上决定着芯片制程工艺的发展水平。当然这并不是绝对，按说欧洲能够容易获得光刻机，制造水平也不行。

因为除了光刻机，还需要芯片制造技术过硬，因此台积电才能做到领先。近年来，我们的制造技术不断进步，EUV光刻机却被限制了，为此我们只能去突破国产EUV。

关于国产DUV、EUV光刻机，网上的谈论很多，不少人认为光刻机非常复杂，我们投入不少，很难做出来。那么，到底目前进展如何？我们何时能够真正实现突破呢？

光刻机确实技术非常先进，尤其是EUV，包含约10个零部件，每台的造价超过1.5亿美元，集成了全球多项高精尖技术。ASML曾表示，即使给图纸我们也做不出来。

事实真是如此吗，我们真的做不出来EUV吗？业内的专家项立刚对此有不同看法。

项立刚是我国通信业知名观察家、智能互联网研究专家，日常跟芯片行业人士接触较多，在网上谈论芯片相关也不少。他表示，只有真正干实业的，才了解具体情况。

项立刚认为，网上传的光刻机多么复杂、单靠我们根本搞不出来，都是外企放出的消息，就是为了误导我们。并且我们决心去突破国产光刻机，也就是近几年才开始。

只要我们下定决定了，他的判断是3年做出样机、5年规模量产，先DUV后EUV。

近日，项立刚再谈光刻机，相信近几年大家会突然发现光刻机搞出来了，并且还大量商用了。之前是投入不多，20年投入才不到50亿，上海微电子也不超过20亿。

现在开始重视了，有市场、有投入、有人才，相信已经做出来了，正在跑稳定性。

项立刚说法非常令人振奋人心，但很多人估计还是不太相信。那么，接下来看下荷兰工程师的看法吧。近日，荷兰工程师在网上谈了EUV光刻机，重点提到了中国。

第一，物理定律都是一样的

这位荷兰工程师，在半导体行业工作多年，曾在中国生活和工作了3年。他认识很多来自ASML的工程师，对EUV光刻机也了解很多，因此他的说法还是比较可信的。

他说EUV光刻机算是目前最复杂的工具，但它依然是由人类设计和制造的，其物理定律在全球都是相同的。既然荷兰企业能够做出来，那么其他国家当然也是可以的。

ASML总裁之前也提到过，物理定律在中国和荷兰是一样的，他们的意思基本一致。

第二，中国如今已经有实力

除了上边的物理定律是一样的，这位荷兰工程师还重点提到，中国如今已经有雄厚的经济实力，目前中国经济是荷兰的17倍，这样的基础完全有实力发展光刻机。

因为中国工具制造商完全可以用ASML等无法与之竞争的高薪去雇用顶尖的人才。

荷兰工程师还表示，中国本身就是一个科技强国，研发支出排名全球第二，近年来专利申请最多，尤其是科技方面的人才也最多。光刻机荷兰可以，中国当然更可以。

第三，光刻机只是时间问题

物理定律一样，中国又有实力，只要有足够的时间，中国肯定也能做出EUV光刻机。

如今，半导体技术已经接近成熟，发展速度也开始放缓，中国更有时间、有机会迎头赶上。荷兰工程师还透露，其实中国已经成功做到了，并且还取得了良好的效果。

荷兰工程师表示，中国已经有了一台工作中的EUV光刻机原型，在芯片测试、封装、生产等方面赶上了其他公司，同时它的第一台浸没式光刻机也准备投入商业使用。

对于其他地区的光刻机进展，恐怕没有比ASML更加了解的了。这位荷兰工程师因为是业内人士，并且经常接触ASML的工程师，所以他的说法应该不会是空穴来风。

荷兰工程师跟项立刚的说法基本差不多，相信我们在高端光刻机上会尽快突破的！