ASML传来新消息，事关国产光刻机，倪光南院士的呼吁该重视了

自从2020年中芯国际向ASML购买最先进的光刻机未果之后，国内市场对高端光刻机的研发就一直没有停止过。原因无他，就是希望以高端光刻机为突破口，实现芯片国产化的目标，同时也能摆脱被西方“卡脖子”的命运。

大家都知道，由于芯片应用广泛，小到智能手机，大到飞机火箭都离不开芯片的加持，所以芯片被称为“现代工业粮食”。然而，光刻机是制造芯片必不可缺的设备，尤其是EVU光刻机，是制造7nm及以下工艺制程芯片的关键。可以说，没有EUV光刻机是无法完成量产高端芯片任务的，其重要性就不言而喻了。

在光刻机领域，荷兰ASML的技术无疑是最先进的，其生产的光刻机畅销全球。像台积电、三星、英特尔等芯片大厂，都需要从ASML购买EUV光刻机。

反观国内市场，似乎只有上海微电子一家光刻机生产商苦苦支撑，而造成这一结果出现的主要原因有两方面，其一，我们起步比较晚，发展早期过于依赖进口，能买到的绝对不自己造。其二，由于受《瓦森纳协定》的约束，国内企业无法获得某项高技术和先进设备，EUV光刻机就在该协定中。

正是因为如此，在2020年中芯国际向ASML购买的EUV光刻机，至今都没有到货。也就是说，我们想要突破西方的技术封锁，就必须全面实现高端设备的国产化。

为了改变这一局面，国家制定了要在2025年实现芯片自给率70%的目标，同时国内各科研单位、各高等院校以及各科技公司都纷纷参与进来，势要从根本上攻克光刻机这道难关。

功夫不负有心人，国内光刻机市场呈现出一片勃勃生机。比如中科院已经在光源、物镜等方面取得了不错的成绩；上海微电子首台2.5D/3D先进封装光刻机也已经完成交付，成功打破了ASML在该领域的垄断；北京国望光学光刻机曝光系统生产基地也已经进入到关键阶段等等。

面对国内光刻机市场一片大好，ASML开始坐不住了。先是做出让步，其表示除了EUV光刻机外，DUV光刻机可以正常出货给我们，甚至称可以降价。后又向老美发出警告，称如果不把先进的光刻机卖给中国，那么用不了几年的时间，他们就会完全掌握光刻机技术，到那个时候ASML可能将彻底失去中国市场，美半导体企业也会因此受到了损失。

要知道，DUV光刻机与EUV光刻机相比，后者的技术含量强于前者，而我国上海微电子28nm光刻机的量产也提上了日程。也就是说，ASML卖给我们DUV光刻机的举动，究其本质，是害怕自己在该领域的垄断地位被我国撼动，所以放出的缓兵之计。

倪光南院士不止一次地发出呼吁：关键核心技术是买不来、换不来、求不来的，我们应该放弃幻想，身体力行地去完成全产业链的国产化替代，只有这样才能彻底摆脱对海外企业的依赖。

然而，随着一则消息的传来，似乎意味着国产光刻机被ASML浇了一盆冷水，同时也意味着倪光南院士的呼吁该重视了。

因为就在近日，有消息称，上海积塔半导体公布了光刻机等设备的采购竞标信息，ASML成功拿下了两台i-line光刻机和一台Krf光刻机订单，而国内光刻机厂商却再次碰壁。

其实，这次ASML拿下的光刻机订单型号，国内上海微电子早已经实现了突破，并且可以生产制造。那么问题来了，为什么上海塔积半导体会选择ASML，反而冷落了国产光刻机厂商？原因可能有以下几方面。

首先，ASML生产的光刻机物美价廉。要知道，由于集成电路迭代速度过快，导致企业没有多少试错成本，再加上，企业的目的就是生存下去，所以塔积半导体选择ASML无可厚非。

其次，ASML光刻机技术先进。众所周知，在全球光刻机领域，ASML可谓是一家独大，能与其合作是半导体行业的共识，像三星、台积电等都争先巩后与之合作。反观上海微电子，其目前出货主要集中在先进封装光刻机上，塔积半导体此次采购的光刻机型号，上海微电子出货量很少。

也正是因为以上几点原因，上海塔积半导体选择ASML也是在情理之中。毕竟，对于刚成立五年的塔积半导体，稳定可持续发展比什么都重要。

值得一提的是，除了ASML中标三台光刻机外，国内企业北方华创、拓荆科技、芯源微三家合计中标占比高达67%。也就是说，上海积塔半导体设备国产化率还是很高的。

不管怎么说，无论是在产能上，还是在良品率上，国产光刻机厂商与ASML的差距都比较大。所以摆在我们面前的路只有一条，那就是重视倪光南院士的呼吁，即使我们购买了海外企业的设备，也不要放缓自研的脚步。更何况，最先进的技术成功从来都是买不来的，只有坚持走自主研发的路线，加速国内半导体设备产业链的整体突破，才能彻底打破西方的技术封锁。

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