说到光刻机，我们自然而然的就会想到荷兰的ASML，不过这家企业的发展之路也并不容易，据悉，在早期时候，ASML也曾决定放弃高精度光刻机的研发，理由是难度系数太大。不过在那时，台积电、高通、Intel、三星都已经押注ASML，在多方的极力劝阻和施压下，ASML最终迫于压力才改变了决定。

光刻机被誉为工业界的明珠，足以见得其珍贵和难得，不过遗憾的是，ASML目前垄断着全球所有的高端光刻机市场，同时其最大的股东来自于美国花旗集团。在这次的中西科技较量中，ASML也被迫卷入其中，致使现在中国在高端光刻机采购方面遭到重重阻拦。自此，我国也走上了高端光刻机的自主研发之路。

院士：造EUV光刻机不现实

ASML目前已经生产出DUV和EUV两款最先进的光刻机，而要想实现7nm制程以下的芯片制造，必须借助EUV光刻机才能完成。由于我国目前尚未突破高端光刻机技术，所以在芯片制造方面屡屡受限于人，虽然上海微电子也有独立研发光刻机的能力，不过其最先进的28nm光刻机也要年底才能完成交付。

今年华为手机业务之所以出现断崖式暴跌，也正是因为我国在高精度芯片制造方面受阻，而精于芯片制造的台积电、三星都因为受到美国制裁令的牵连被迫将华为拒之门外，因此，华为也入局了光刻机研发。

国家永远是企业最坚强的后盾，于是中科院也在半导体制造领域进行了重点布局，并要求在2025年之前实现70%的芯片自主率。从某种意义上来说，这理应属于近期国家最重要的项目部署，但是近日工程院对EUV光刻机的评价却泼来一盆冷水。

5月25日，在第五届大数据科学与工程国际会议上，中国工程院院士吴汉明针对EUV光刻机发表了自己的见解，它表示：“一台EUV光刻机价值超过1亿美元，内部涵盖了近10万个零件，分别来自全球5000多家供应商，并且还是由全世界最高端的技术结合而成。”

同时，吴汉明院士还对EUV光刻机技术的来源做了数据分析，其中荷兰腔体和英国真空占了32%，德国光学系统占比14%，美国光源和日本材料分别独占27%。最后，吴汉明院士还做了最后的概括：“EUV光刻机是全球的结晶，如果让一个国家或者一个地区来做是不现实的。”

从吴院士的字里行间可以看出，如果仅仅凭中国的力量来研制EUV光刻机，显然不可能实现，但事实真的如此吗？我们来看看以下几个迹象。

第一，中国目前正在极力发展碳基芯片、光子芯片和量子芯片，而这类芯片的制造可以成功避开EUV光刻机。

第二，中科院表示55nm芯片才是我国市场当前最主要的需求，至于高精度芯片，不必刻意追求。

第三，华为已经将发展重心从手机业务转向软件和云服务，意在表明芯片断供问题在短期内难以解决。

鉴于以上三点信息，我们也能够体会到高精度芯片制造确实难度非凡，所以中国也在另辟蹊径，并试图绕过EUV光刻机。

结语

吴汉明院士的话虽然给中国光刻机研发泼了冷水，但是这也是基于事实而言，我们都相信中国人一直都具备一颗迎难而上的“决心”，但是以一国之力对飚全世界，确实显得有些强人所难。

最后，引用屈原的一句话结束全文：“路漫漫其修远兮，吾将上下而求索。”