低端光刻机市场击溃ASML，国产光刻机触底反弹，降价难改ASML败局

我们想要增强在光刻机市场中的竞争力，提高芯片自给率，率先占据中低端市场是最佳选项。上海微电子在光刻机领域中首次战胜ASML，也很好地证明了这一点。

我是柏柏说科技，资深半导体科技爱好者。本期为大家带来的是：上海微电子在光刻机领域中击溃ASML，ASML光刻机降价事件、我国的光刻机发展现状。

老规矩，开门见山。截止目前，上海微电子生产的中低端光刻机，占据国内中低端光刻机市场的80%。我国是全球最大的半导体需求国，市场前景十分广阔。上海微电子在国内光刻机市场中日渐增强的市场竞争力，给ASML的中低端光刻机业务造成了不小的冲击。特别是上海微电子28纳米光刻机的投用，严重威胁到ASML在我国中低端市场的营收。

为了保证自己在大陆市场中的营收，ASML意图通过对自家中低端光刻机降价的方法，提高自己在我国光刻机市场中的竞争力。可即便是这样，ASML也很难重新开辟我国的中低端光刻机市场。ASML在我国中低端光刻机市场中的失败，是必然的。

这是因为我国的中低端光刻机市场趋于饱和，加上ASML曾经有对我国故意提高光刻机售价、拒绝向我国出口先进EUV光刻机的行为，很难重新获得国产厂商的信任。

更何况ASML向我们出口的是中低端光刻机，这对我国的光刻机业务不仅起不到促进作用，反倒在一定程度上阻碍我国光刻机制程的发展。因此说，ASML在我国中低端市场中的失败是必然的。ASML在国内中低端市场中的落幕与美国脱离不了干系。

美国因忌惮我国近些年在半导体领域中取得的进步，会影响到自己对半导体行业的掌控，对我国的半导体厂商采取技术限制、市场打压等蛮横方略。为了巩固自身在半导体领域中的主导地位，特别是在5G、前端供给链技术方面的先进性，美国对华为、中芯国际、飞腾等半导体厂商实行打压封锁。

建立SIAC半导体协会、邀请日本、韩国成立对华半导体垄断联盟，将59家中国企业列入禁止投资名单，这些都是美国打压、限制我国半导体行业发展实施的策略。在美国的“威逼利诱”下，ASML拒绝向我国出口光刻机，这便削减了ASML在我国中低端市场中的竞争力，给国产光刻机厂商提供了发展机会。

目前我国已经实现了28纳米芯片的完全自主化生产，中芯国际的芯片代工水准达到10纳米。有关于28纳米以下的制程项目：目前上海光机所着重攻坚13.5纳米的EUV光源。中科院破冰计算机光刻，成功演示并验证了快速光学效应修正技术的可行性。光学镜头方面，长春光机所正在着力研究，尼康也加入了我国的光学镜头研究项目。

由10万多个大小零部件构成，5000多家来自不同国家的企业技术建成的EUV光刻机，是困扰我国半导体行业发展的核心设备之一，同时也是衡量我国芯片代工技术高低的基本标杆。但受早先“造”不如“买”、以市场交换技术等错误观念的影响，我们在光刻机领域中的技术比较落后。

虽说我们在中低端光刻机领域里的技术，基本上与西方国家实现持平，但在先进芯片制程中，我们依旧处于劣势地位。想要生产7纳米以及7纳米以下的芯片，依旧离不开EUV光刻机。需要注意的是：网上流传的中芯国际实现7纳米芯片量产的消息，并不是真的。

中芯国际在客户互动平台上，对一位客户提出的公司是否已经实现7纳米芯片制程的突破做出回应：“公司拒绝对传言做出评论”。另外，有关于石墨烯、量子芯片概念可以助力我国如今实现弯道超车的说法也是靠不住的。中芯国际也对于石墨烯做出解释：“公司并没有开展石墨烯芯片业务”。

虽说石墨烯晶圆与量子芯片的性能优于传统的硅基芯片，但是我们缺少能够支持该类新型材料的基础建设。换句话说，我们要想实现新型材料的大范围投用，所投用的资金和精力是巨大的。石墨烯与量子概念可作用于未来的半导体行业，并不能解决目前困扰我国半导体行业的燃“芯”之急，在未来的7~8年内，硅基半导体依旧是主流。

只有认清自己的位置，我们才能够更好地认识到自己的不足，进而弥补、修正。祝愿国产半导体厂商早日破冰技术壁垒，掌握核心技术，在半导体领域中所向披靡。

对于上海微电子在低端光刻机市场中获胜ASML这件事情，大伙有什么想说的呢？ASML低端光刻机降价，国产厂商买还是不买呢？欢迎在下方留言评论。我是柏柏说科技，资深半导体科技爱好者。关注我，带你了解更多资讯，学习更多知识。