市场占额80%！国产光刻机巨头崛起！28nm光刻机今年下线

科学技术是第一生产力，也是决定一家企业竞争胜败的关键性因素。在硝烟纷飞的半导体领域中，谁的科技水平更高，谁就能够在半导体领域中掌握更多的市场主动权。例如台积电的芯片代工，日本Canon Tokki的真空蒸镀机，以及荷兰阿斯麦的EUV光刻机。

作为芯片生产的核心设备，光刻机的地位举足轻重。提起ASML相信大家都不陌生，掌握全球EUV光刻机“命脉”的ASML，借助自身在光刻机领域中确立的优势地位，将EUV光刻机的价位提到11亿人民币的价格。即便如此，ASML的光刻机在市面上依然处于供不应求的状态，而且还不是想买就能买到的。

我是小小王，90后科技爱好者，今天带大家了解，上海微电子将在今年上线投产的“28纳米沉浸式光刻机”。

受老美的技术调控影响，我国的半导体厂商无法购买ASML的EUV光刻机。这导致我们在生产有关7纳米、及7纳米以下的芯片进程中，面临着被光刻机卡脖子的问题。长期以往，将会阻拦我们在半导体领域中的发展。面对这一现状，上海微电子刻苦钻研、潜心精修，实现了从90纳米到28纳米的突破，并在今年上半年推出一台28纳米的沉浸式光刻机，正式应用于商业生产。

那么，上海微电子即将推出的这台“28纳米浸入式光刻机”，技术水平怎么样呢？和EUV光刻机相比，有什么优势和不足吗？让我们继续往下看。

上微推出的这台“浸入式”光刻机，与传统的“干刻式”光刻机相比，在精度和良品率上都处于领先地位。“浸入式”光刻机是通过水的折射、曝光对晶圆进行生产和制造。由于是水的缘故，因此可以对晶圆进行多次折射、曝光，来提高芯片的内存规格。排除环境、技术、市场等因素，沉浸式光刻机可达到5纳米芯片制造水准。

与荷兰ASML的EUV光刻机相比；上微推出的28纳米沉浸式光刻机在技术和生产效率上都处于劣势地位。我们要明白的是，28纳米光刻机是7年前的产物，而且沉浸式光刻机最早可以追溯到20世纪。

7年前的生产设备，搬到现在用于芯片的加工生产，怎么看也是不行的。虽说“浸入式”光刻机可以到达5纳米芯片的水准，但那已经是处于极限的水平，且不说能否到达5纳米，即便是到达5纳米，落后的生产效率同样将会是一个棘手问题。

另外，上微推出的“28纳米沉浸式光刻机”在世界市场中的竞争力也是不如ASML的。ASML完全可以通过对自家DUV光刻机的降价，来对上海微电子进行市场压迫。事实上，ASML也的确这样做了，早在2020年，上海微电子宣布28纳米光刻机技术破冰后，ASML便将自家的DUV光刻机出售给我国，而且通过ASML提供的技术，完全可以将芯片提到5纳米水准。这对于上海微电子来说，实现是一个不小的挑战。

要知道，上海微电子占据了我国80%的光刻机市场。倘若ASML通过降价抛售等垄断性行为，对国内的光刻机市场发起冲击，那么上海微电子在我国光刻机市场中的占额将饱受威胁。买与造的问题将会重新上演。

看到这里，可能很多道友要问了，上海微电子推出这台光刻机的意义是什么呢？答：确保我们在光刻机领域中不再受制于人。为什么这么说呢？中芯国际、华为相继遭到打压，提醒我们，想要在半导体领域中有所成就，就一定得掌握发展半导体事业的核心技术。

有了上海微电子的光刻机作为保障，即便是西方国家中断我国的光刻机出口，那么我们也可以继续发展半导体事业。另外，尽管28纳米光刻机没有达到现有手机芯片的水准。但是却可以满足其它行业的芯片需求，例如汽车领域。

此外华为的麒麟930、苹果的A7、骁龙800等低端芯片都是通过28纳米光刻机进行生产的。浸入式光刻机虽说不能满足当前手机对于中高端芯片的要求，但却可以满足低端芯片的需求。不管怎么说，上海微电子推出的28纳米光刻机，将会在很大程度上缓解我国的光刻机压力。

对于上海微电子的28纳米沉浸式光刻机，大家还有什么想说的吗？欢迎在下方留言评论，我是小小王，90后科技爱好者。关注我，带你了解更多资讯，学习更多知识。