继蚀刻机国产化后,芯片的核心设备再获突破,中国电科功不可没

除了光刻机和蚀刻机,这一设备也已经实现国产化,如今已经生产了几百万颗芯片。

众所周知,国内半导体事业发展一直不算顺利,由于各类顶尖的设备被国外企业所垄断,难以采购或者采购金额巨大,导致国内半导体发展迟迟没有突破性进展。

但是近年来,国产半导体设备接连实现了自主研发,如今又一个新设备成功问世。

继蚀刻机国产化后,芯片的核心设备再获突破,中国电科功不可没

蚀刻机已实现国产化

众所周知,芯片的生产离不开光刻机,但是光刻机之外还有一项设备是非常重要的,那就是蚀刻机。

国产蚀刻机的发展有赖于中微半导体的不懈努力,在创始人尹志尧的带领下,中微公司成功研制出了首款自主研发的蚀刻机。

并且全球首款5nm蚀刻机的研发就出自中微半导体之手,中微借助该项技术专利成功取得了代工巨头三星、台积电的大量订单,在2015年,凭借超高的工艺水平,迫使美国企业放弃了对该设备的垄断计划。

离子注入机也已国产化

不过有了光刻机和蚀刻机还不够,芯片生产流程繁杂,需要各式各样的尖端设备,离子注入机就是其中之一。

该设备主要用于离子注入环节,跟光刻环节和蚀刻环节同等重要,因此离子注入机的地位更是不言而喻。

机器的工作原理是在常温下,向硅基芯片中注入离子,以实现芯片结构和性能的改变,从而满足各类设备的需求。

继蚀刻机国产化后,芯片的核心设备再获突破,中国电科功不可没

离子注入机一般有三个等级的划分,分为高能、低能和中束注入机,其中制造难度系数最高的当属高能注入机了。

不过遗憾的是,长久以来离子注入机被两家美国企业所垄断,其市占率一度高达70%,其中国内高能离子注入机竟然全部被美国企业所垄断。

国产设备应用于28nm生产线

不过好在近年来在国内的重点规划下,离子注入机已经实现了自主研发,2020年电子科技就成功研制出了国内第一台离子注入机。

该机器的出现意味着国内已经具备了为各大芯片制造商创造新款解决方案的能力,同时也彻底打破了诸如应用材料等美国企业的垄断局面。

电子科技集团如今已经成为国内唯一一家能够自主研发并生产离子注入机的企业,前不久更是实现了28nm工艺的突破,这也意味着该工艺的所有生产设备均已实现了百分之百国产化的水平。

继蚀刻机国产化后,芯片的核心设备再获突破,中国电科功不可没

电子科技究竟是何方神圣?

成立于2002年的电子科技集团一直致力于半导体和集成电路领域的科研突破。

为了响应国内的半导体规划方案,电子科技将目光放在了离子注入机上,并一举研制出了顶尖的中束离子注入机,2015年电子科技的注入机已经广泛应用于市场中,尤其是国内的芯片生产巨头中芯国际,购入了大量离子注入机,用于各类成熟工艺的生产。

眼下离子注入机已经跟光刻机、蚀刻机和镀膜机并称半导体设备的四大重要组件,在中芯国际的生产线上,该离子注入机已经创造了几百万芯片的产能。

继蚀刻机国产化后,芯片的核心设备再获突破,中国电科功不可没

除了离子注入机,国内对光刻机的发展也非常重视,国内光刻设备制造巨头,上海微电子就已经为国产光刻机做出了极大贡献,2020年,其光刻机销量为60台,在国内市场份额里占比80%。

眼下世界芯片短缺已经呈现出了不可逆的发展趋势,如果国内各大企业能够协同发展,在半导体设备和材料,以及工艺上齐头并进,互相融合。

国产芯片不仅能够扩充产能,工艺水平也将会大大提高。

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页面更新:2024-05-02

标签:三星   芯片   光刻   设备   功不可没   美国   电子科技   半导体   离子   巨头   环节   自主   核心   水平   工艺

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