国产光刻机之路，为什么发展缓慢？

说到光刻机，大家想到的都是荷兰的AMSL公司，现在全球只有他们可以造出最先进的光刻机。要想造光刻机非常困难，因为光刻机所需零件多、技术要求极高。那么，为什么我们国家的光刻机发展那么艰难呢？

光刻机就像一个照相机，利用光在硅片上进行操作，电路图通过光刻机投射到底片上，就像用光进行雕刻。现在的光刻机是利用极紫外光，同时需要一系列精密的仪器来改变光，最终达到光刻的效果。7nm及以下的先进工艺就是使用EUV光刻机，但目前只有荷兰ASML可以生产能够实现量产的光刻机。

国内的光刻机之路是怎样的呢？早在1977年，我国最早的光刻机诞生，名叫JGK-3，随后，在1985年，就研制出来首台g线1.5um分步光刻机，那时和国外有差距，但差距不超过4年。

但是随着时间的推移，80年代末，为了尽快地赶上国外和国内的差距，我们奉行“造不如买，买不如租”的政策，大力引进国外技术，但是国外技术因为其先进性，变相打压了国产技术，竞争之下，国产技术得不到支持，发展缓慢。

直到2000年，国产企业才重新意识到光刻机领域的落后，开始自主研发，但长久依赖进口让国内技术环境非常落后，人才也大量流失到国外，国内外差距非常大。即使是国内的上海微电子，在国外排名也只能跻身三线。同时，我们还有其他的弱点，那就是没有完善的半导体供应链体系，所以在美国的技术封锁下，我们只能默默挨“卡”。

以前发展的方式是一个原因，另一个客观原因就是海外的技术垄断美国一直限制先进技术出口中国，即使出售光刻机，也含有保留条款。海外技术垄断严重下，自研更加困难。

即使如此艰难，我们依旧不会停下脚步，国产替代势在必行，相信科研人员的努力，相信国家科技的发展。