中国光刻机巨头打破垄断，拥3200件专利，占据80%低端市场

芯片制造拥有七大关键环节，光刻便是一个十分重要的步骤，直接定义晶体管的尺寸。但是，该环节所需的光刻机，却卡住了我国半导体领域的脖子。

在中美贸易摩擦加剧、新冠肺炎全球大流行的情况下，光刻机，这块压在国人心头上的大石更显沉重。

目前，荷兰ASML、尼康与佳能占据了全球光刻机市场，将近99%的市场份额。

好在，上海微电子的出现填补了我国光刻机领域的空白，成为国内唯一的光刻机厂商。目前，上海微电子已突破90nm光刻机，占据我国80%的低端市场。

虽然，上海微电子与ASML之间有着显而易见的差距，但正逐渐打破着海外的垄断。据悉，在2021年，上海微电子有望交付首台28nm光刻机，若真如此，我国芯片制造业将被大大推动，逐渐摆脱海外的束缚。

上海微电子成立于2002年，七年磨一剑，其在2007年成功突破365nm光波厂的DUV光刻技术，可用作生产90nm制程芯片。

2009年时，上海微电子的首台先机封装光刻机产品SSB500/10A成功交付，迈出了重要的一步。

2016年时，上海微电子SSX600系列扫描投影光刻机量产，其中一款拥有90nm分辨率。

对于MCU、电源管理芯片等产品的生产来说，上海微电子的光刻机已经可以胜任。

多年来，上海微电子不断积累技术。到2020年3月份时，上海微电子直接持有的专利与专利申请量达3200多项，数量可观。

同时，上海微电子还建设知识产权联盟，共享联盟成员知识产权。

如今，在华为受美方制裁面临断芯危机，中国芯片产业亟待发展之时，上海微电子被推到了十分重要的位置上。

不过，实现高端光刻机的研制并不容易，甚至要难于原子弹的制造。就算是ASML也要融合全球供应链厂商，其将近90%的零部件，都由供应商提供。

因此，上海微电子的发展需要我国半导体及相关厂商的共同努力才能够实现，仅靠自己去突破海外光刻机垄断，无疑是天方夜谭。

而且，我国在芯片相关技术、材料等方面也有着缺失，短板较多，并不是一朝一夕便能够改变，需要一众厂商的共同发力。

如今，我国已经制定了2025年芯片自给率达到70%的目标，并通过免税、将集成电路列入一级学科等手段，推动这一目标的实现。

而包括上海微电子之内的中国相关厂商，都将受益，实现更进一步的突破。期待我国芯片行业的未来发展。

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